據報道，上海傳芯半導體掩?；逖邪l及產業化項目日前在上海臨港啟動，項目將投資建成國內首條半導體級14納米光掩膜基板生產線。

啟動儀式上，傳芯半導體董事長黃昶程表示，未來，傳芯半導體將在臨港新片區投資建設國內首條半導體級14nm光掩膜基板生產線，該半導體級先進制程光掩膜基板生產線的落地，將使光掩膜產業鏈中關鍵產品實現本地化。

光掩膜一般也稱光罩、掩膜版，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉印到產品基板上。光掩膜主要由兩部分組成:基板和不透光材料。

據半導體專家莫大康介紹，光掩膜技術是光刻產業當中重要的一個環節。光掩膜作為集成電路的原始模板，通過光刻技術將掩膜版上的電路圖案復制到晶圓上，從而批量化生產芯片等產品。隨著晶體管變得越來越小，光掩膜的制造也變得越來越復雜。先進制程光掩膜基板的需求也在不斷提升。

在半導體領域，英特爾、三星、臺積電、中芯國際等半導體制造廠所用的光掩膜大部分由自己的專業工廠生產。非先進制程，特別是60nm及90nm以上工藝產品，產品外包的趨勢非常明顯。不過，獨立光掩膜市場集中度很高，Photronics、大日本印刷DNP 和日本凸版印刷Toppan 三家占據80%以上的市場份額。